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| 特性級別 | 增強(qiáng)級|||標(biāo)準(zhǔn)級||| |
| 牌號 | PF6131AA |
| 加工級別 | 涂覆級|||拉絲級|||唰出級|||吹墮級||| |
| 品名 | INEOS PF6131AA |
| 廠家(產(chǎn)地) | 英利士 |
| 用途級別 | 通用級||| |
INEOS PF6140AA
生產(chǎn)企業(yè)：瑞士英力士
規(guī)格用途
| 規(guī)格級別 | 外觀顏色 | ||
| 該料用途 | |||
| 備注說明 | |||
技術(shù)參數(shù)
| 性能項目 | 試驗條件[狀態(tài)] | 測試方法 | 測試數(shù)據(jù) | 數(shù)據(jù)單位 | |
| 物理性能 | 密度 | ISO1872-1 | 0.918 | g/cm3 | |
| 物理性能 | 熔流率（熔體流動速率）(190°C/2.16kg) | ISO1133 | 4.5 | g/10min | |
| 薄膜 | 薄膜厚度-經(jīng)測試 | 20 | μm | ||
| 薄膜 | 拉伸模量 | 1%正割,MD:20μm | ISO1184 | 125 | MPa |
| 薄膜 | 拉伸模量 | 1%正割,TD:20μm | ISO1184 | 120 | MPa |
| 薄膜 | 拉伸應(yīng)力 | MD:斷裂,20μm | ISO1184 | 30.0 | MPa |
| 薄膜 | 拉伸應(yīng)力 | TD:斷裂,20μm | ISO1184 | 20.0 | MPa |
| 薄膜 | 伸長率 | MD:斷裂,20μm | ISO1184 | 280 | % |
| 薄膜 | 伸長率 | TD:斷裂,20μm | ISO1184 | 460 | % |
| 薄膜 | 落錘沖擊(20μm) | ASTMD1709A | 520 | g | |
| 薄膜 | 埃爾曼多夫抗撕強(qiáng)度 | MD:25μm | ASTMD1922 | 310 | g |
| 薄膜 | 埃爾曼多夫抗撕強(qiáng)度 | TD:25μm | ASTMD1922 | 450 | g |
| 薄膜 | 薄膜厚度-經(jīng)測試 | 20 | μm | ||
| 薄膜 | 拉伸模量 | 1%正割,MD:20μm | ISO1184 | 125 | MPa |
| 薄膜 | 拉伸模量 | 1%正割,TD:20μm | ISO1184 | 120 | MPa |
| 薄膜 | 拉伸應(yīng)力 | MD:斷裂,20μm | ISO1184 | 30.0 | MPa |
| 薄膜 | 拉伸應(yīng)力 | TD:斷裂,20μm | ISO1184 | 20.0 | MPa |
| 薄膜 | 伸長率 | MD:斷裂,20μm | ISO1184 | 280 | % |
| 薄膜 | 伸長率 | TD:斷裂,20μm | ISO1184 | 460 | % |
| 薄膜 | 落錘沖擊(20μm) | ASTMD1709A | 520 | g | |
| 薄膜 | 埃爾曼多夫抗撕強(qiáng)度 | MD:25μm | ASTMD1922 | 310 | g |
| 薄膜 | 埃爾曼多夫抗撕強(qiáng)度 | TD:25μm | ASTMD1922 | 450 | g |
| 光學(xué)性能 | 光澤度(45°,20.0μm) | ASTMD2457 | 93 | ||
| 光學(xué)性能 | 霧度(20.0μm) | ASTMD1003 | 1.0 | % | |
| 補(bǔ)充信息 | PunctureResistance | 內(nèi)部方法 | 27.0 | Ncm/μ | |
INEOS PF6140AA
